Fundraising September 15, 2024 – October 1, 2024
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1
Chemische Dampfablagerung
De Gruyter
Heinrich Arnold (editor)
abb
ablagerung
gleichung
ablagerungsrate
abschn
cvd
sowie
ergibt
temperatur
abschnitt
wobei
gilt
bzw
epitaxie
behandlung
oberfläche
erfolgt
vgl
wert
reaktionen
verlauf
gasphase
growth
beispielsweise
modell
reaktionsbegrenzung
diffusionsbegrenzung
partialdruck
crystal
gaas
sih
zahl
entsprechend
praktisch
reaktion
reaktor
solid
temperaturabhängigkeit
behandelt
diffusion
homogenkeimbildung
prozeß
tritt
abhängigkeit
dotierung
folgt
verwendet
liegen
stark
substrat
Year:
1983
Language:
german
File:
PDF, 27.70 MB
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german, 1983
1
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